6 дюймдук GaN-On-Sapphire

Кыска сүрөттөмө:

150мм 6 дюймдук GaN кремний/сапфир/SiC эпи-катмар пластинкасы Галлий нитридинин эпитаксиалдык пластинкасы

6 дюймдук сапфир субстрат пластинкасы сапфир субстратында өстүрүлгөн галий нитридинин (GaN) катмарларынан турган жогорку сапаттагы жарым өткөргүч материал. Материал мыкты электрондук транспорттук касиеттерге ээ жана жогорку кубаттуулуктагы жана жогорку жыштыктагы жарым өткөргүч түзүлүштөрдү өндүрүү үчүн идеалдуу.


Продукт чоо-жайы

Продукт тегдери

150мм 6 дюймдук GaN кремний/сапфир/SiC эпи-катмар пластинкасы Галлий нитридинин эпитаксиалдык пластинкасы

6 дюймдук сапфир субстрат пластинкасы сапфир субстратында өстүрүлгөн галий нитридинин (GaN) катмарларынан турган жогорку сапаттагы жарым өткөргүч материал. Материал мыкты электрондук транспорттук касиеттерге ээ жана жогорку кубаттуулуктагы жана жогорку жыштыктагы жарым өткөргүч түзүлүштөрдү өндүрүү үчүн идеалдуу.

Өндүрүш ыкмасы: Өндүрүш процесси металл-органикалык химиялык бууларды жайгаштыруу (MOCVD) же молекулярдык нур эпитаксиясы (MBE) сыяктуу алдыңкы ыкмаларды колдонуу менен сапфир субстратында GaN катмарларын өстүрүүнү камтыйт. Депозиттик процесс жогорку кристалл сапатын жана бирдей пленканы камсыз кылуу үчүн көзөмөлгө алынган шарттарда жүргүзүлөт.

6 дюймдук GaN-On-Sapphire тиркемелери: 6 дюймдук сапфир субстрат микротолкундуу байланышта, радар системаларында, зымсыз технологияда жана оптоэлектроникада кеңири колдонулат.

Кээ бир жалпы колдонмолор кирет

1. Rf күч күчөткүч

2. LED жарык өнөр жайы

3. Зымсыз тармактык байланыш жабдуулары

4. Жогорку температурадагы чөйрөдөгү электрондук аппараттар

5. Оптоэлектрондук приборлор

Продукт спецификациялары

- Көлөм: субстрат диаметри 6 дюйм (болжол менен 150 мм).

- Беттин сапаты: Күзгүнүн мыкты сапатын камсыз кылуу үчүн бети жакшы жылмаланган.

- Жоондугу: GaN катмарынын калыңдыгы белгилүү бир талаптарга ылайыкташтырылышы мүмкүн.

- Таңгактоо: субстрат ташуу учурунда зыян келтирбөө үчүн антистатикалык материалдар менен кылдат таңгакталган.

- Четтерди жайгаштыруу: субстраттын түзүлүштү даярдоо учурунда тегиздөө жана иштешин жеңилдеткен белгилүү бир позициялоочу четтери бар.

- Башка параметрлер: ичкелик, каршылык көрсөтүү жана допинг концентрациясы сыяктуу спецификалык параметрлер кардарлардын талаптарына ылайык жөнгө салынышы мүмкүн.

Алардын жогорку материалдык касиеттери жана ар түрдүү колдонмолор менен, 6-дюймдук сапфир субстрат пластиналар ар кандай тармактарда жогорку натыйжалуу жарым өткөргүч түзүлүштөрдү өнүктүрүү үчүн ишенимдүү тандоо болуп саналат.

Субстрат

6” 1мм <111> p-түрү Si

6” 1мм <111> p-түрү Si

Epi ThickAvg

~5um

~7um

Epi ThickUnif

<2%

<2%

Жаа

+/-45ум

+/-45ум

Крекинг

<5мм

<5мм

Vertical BV

>1000V

>1400V

HEMT Al%

25-35%

25-35%

HEMT ThickAvg

20-30нм

20-30нм

Insitu SiN Cap

5-60нм

5-60нм

2DEG конц.

~1013cm-2

~1013cm-2

Мобилдүүлүк

~2000см2/Vs (<2%)

~2000см2/Vs (<2%)

Rsh

<330 Ом/кв (<2%)

<330 Ом/кв (<2%)

Детальдуу диаграмма

6 дюймдук GaN-On-Sapphire
6 дюймдук GaN-On-Sapphire

  • Мурунку:
  • Кийинки:

  • Бул жерге билдирүүңүздү жазып, бизге жөнөтүңүз